ポジ型レジスト現像液
| 生産工場 | 新潟 |
|---|---|
| 主な用途 | 電子工業用ポジ型フォトレジスト現像液 |
| 荷姿 | コンテナ、ドラム、ポリ缶 |
半導体デバイスはLSIから超LSIへと高集積化、微細化が急速に進展し、これに使用されるポジ型レジストの現像液には各種イオンやダストを極限まで減少させた超高純度な水酸化テトラメチルアンモニウム（TMAH）が要求されています。
当社独自の技術により開発致しました超純TMAHは、ハロゲン化物や有機酸塩を使用しない独自の製造法によりアニオン・カチオンが少なく、今後の高集積化時代に最適なポジ型レジスト現像液です。
MSDS（PDF）
お問い合わせ
機能化学品カンパニー 無機化学品事業部エレクトロニクスケミカルグループ
TEL：03-3283-4755
FAX：03-3287-2643
お問い合わせフォーム
